2010月 2017

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光刻机我们正在努力追赶,目前技术最牛的不是德国日本而是这国家

头条 by xfire

长期以来,光刻机一直是我国CPU的一个瓶颈,由于我国光刻机技术领域起步较晚,我国的光刻技术长期落后于先进国家,成为我国工业现代化进程的一块短板。

随着我国十二五确立了半导体产业的战略目标,国家投入了巨量的资金扶持,现在我国的光刻机已经慢慢赶了上来。2006年,科技部提出了光刻技术的中长期规划,希望中科院的国家重点实验室,能找到一条绕开国外技术壁垒,具有自主知识产权的光刻路径。

近日据媒体报道,光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备10纳米以下的信息器件。

西方国家一贯的做法是,你能研制出来低端的产品,马上卖给你中端产品,然后技术封锁中,高端零部件以及核心技术。反正就是不让你掌握核心技术抢他们生意。现在,我们能在实验室中研制出了高端的光刻技术,现在便有传闻说,ASML准备将其制程最先进的 EUV极紫外光刻系统卖给我们了。

目前国际市场上,光刻机技术最牛的不是德国,日本,而是荷兰的ASML。目前全球绝大多数半导体生产厂商,都向ASML采购光刻机机型,例如英特尔(Intel),三星(Samsung),海力士(Hynix),台积电(TSMC),中芯国际(SMIC)等。而高通、三星、台积电、Intel等都向ASML提供了资金支持。

ASML作为为数不多的芯片光刻设备供应商,唯一一家EUV设备提供商,ASML在2017年的营收表现非常亮眼,主要体现在以下几个方面:

(1)深紫外光(DUV)光刻

ASML推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT:2000i,具备多项硬件技术创新,让客户得以在7奈米和5奈米制程节点上,同时用浸润式光刻和EUV系统进行量产,并达到2.5奈米的迭对精度。另一方面,3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高,目前TWINSCA NXT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCA NXT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。

(2)全方位光刻优化方案

2017年第三季开始出货最新的Yield Star 375F量测系统,具备最新的光学技术,可更快、更精准的获取量测结果。

(3)极紫外光光刻

在荷兰总部已经成功将升级的EUV光源整合进NXE:3400B系统中,并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。至此,ASML的EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标,下一阶段,ASML将专注于达成满足客户在量产时所需的相关妥善率(availability)指标,并持续提升系统生产力。

在第二季当中,ASML也完成了对德国卡尔蔡司旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT)24.9%的股权收购,以进一步深化双方的策略伙伴关系,共同发展下一代EUV光刻系统。

我国光刻机技术要赶上ASML并实现弯道超车,还任重而道远。希望我国光电所研制的光刻机技术能够尽快的实现产业化。同时,利用ASML的销售策略松动的时机,赶紧买买买,以弥补我们IC制程工艺方面的代差和产能空缺。

光刻机,自研和进口,两手抓,两手都要硬。

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